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一种真空镀膜系统装置的制作方法

一种真空镀膜系统装置的制作方法

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  • 来源:
  • 发布时间:2021-09-16
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【概要描述】 真空镀膜系统是在真空条件下对薄膜器件进行镀膜的设备。为了提高生产效率,真空镀膜系统通常有输送待涂覆的基材或装载有多个待涂覆基材的载板。现有轧辊一般为金属轧辊,采用圆柱形整体金属结构。待镀基板或载体与金属滚筒接触,由滚筒驱动实现传动。待镀基板或载体的电流通过金属辊传导至腔体,实现镀膜放电。然而,待镀基板或载体与金属辊相切,两者硬接触,使得待镀基板或载体在传输过程中振动。结果,待镀基板或载体被划

一种真空镀膜系统装置的制作方法

【概要描述】 真空镀膜系统是在真空条件下对薄膜器件进行镀膜的设备。为了提高生产效率,真空镀膜系统通常有输送待涂覆的基材或装载有多个待涂覆基材的载板。现有轧辊一般为金属轧辊,采用圆柱形整体金属结构。待镀基板或载体与金属滚筒接触,由滚筒驱动实现传动。待镀基板或载体的电流通过金属辊传导至腔体,实现镀膜放电。然而,待镀基板或载体与金属辊相切,两者硬接触,使得待镀基板或载体在传输过程中振动。结果,待镀基板或载体被划

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   真空镀膜系统是在真空条件下对薄膜器件进行镀膜的设备。为了提高生产效率,真空镀膜系统通常有输送待涂覆的基材或装载有多个待涂覆基材的载板。现有轧辊一般为金属轧辊,采用圆柱形整体金属结构。待镀基板或载体与金属滚筒接触,由滚筒驱动实现传动。待镀基板或载体的电流通过金属辊传导至腔体,实现镀膜放电。然而,待镀基板或载体与金属辊相切,两者硬接触,使得待镀基板或载体在传输过程中振动。结果,待镀基板或载体被划伤甚至磨损,待镀基板或载体与金属辊线接触,接触面积小,导电率慢,导电性差,影响了镀膜放电的稳定性,镀膜效果差,不能满足大容量、大电流、高成品率的工艺要求。   
       因此,有必要提供一种真空镀膜系统装置来解决镀膜效果和镀膜放电稳定性差的问题。一种真空镀膜系统装置,包括真空室、固定在真空室中的导电机构和多个辊机构,真空室具有输送方向,多个辊机构沿输送方向排列,每个辊机构包括一驱动单元和辊,一驱动单元具有穿过真空室侧壁的一输出轴,导电机构包括二驱动单元、导电部以及多个接地片。导电部与二驱动单元传动连接,导电部具有可与载板接触的导电面。真空镀膜系统每个接地带的一端固定到二驱动单元,并且当处于镀膜状态时与导电部分电连接,而另一端固定到真空室,并且当处于镀膜状态时与真空室电连接,并且具有收缩状态和膨胀状态。在一个实施例中,导电部包括多个导电块,沿输送方向排列在导电板远离波纹管的一侧,每个导电块与导电板扣合,远离导电板的一端具有台阶,台阶包括一表面、二表面和连接一表面和二表面的三表面, 在一个实施例中,加强板设置在导电板和顶杆之间,加强板的延伸方向平行于输送方向,导电板和顶杆固定连接。   
      在真空镀膜系统装置中,一驱动单元工作,一输出轴驱动下辊旋转,使辊上的载板沿输送方向进入真空室。在承载板被传送到真空室中的适当位置之后,二驱动单元操作以驱动导电部分和接地带朝向承载板移动,并且接地带展开,使得导电部分的导电表面接触承载板,并且电流通过导电部分从承载板传导到接地带,然后被引入真空室。
      综上所述,真空镀膜系统的一驱动单元驱动滚筒继续旋转,从而实现位于滚筒上的载板输出完成蒸发;滚轮上设置有至少一个环绕一输出轴的缓冲环,使得载板与滚轮之间存在软接触,减小载板与滚轮之间的硬接触范围,减小载板在传动过程中的振动,减少载板的划伤甚至磨损,保证镀膜效果和产品良率。由于真空镀膜系统载板的导电面在涂层放电时与载板接触,载板与导电部分表面接触,导电接触面积更大,导电速率更快,导电性更好,涂层放电稳定性更好,涂层效果更好,能够满足大容量、大电流、高成品率的工艺要求。



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