真空镀膜机已经普及到各行各业，大部分彩色物体都是通过镀膜来完成的。真空镀膜系统用于真空镀膜产品。在现有的真空镀膜系统中，由于镀膜材料浓度上升缓慢，低浓度雾化镀膜材料的镀膜效率低，导致镀膜时间长，而高浓度雾化镀膜材料的镀膜时间短，但会造成大量浪费。涂层本身用于改变工件的表面特性。为了使工件表面获得多种不同的性能，往往需要对工件进行多次涂覆。因此，需要在不同的涂布机之间转换涂布的工件，以获得不同的涂层，从而导致时间的浪费。此外，多次转换使得效率低并且涂覆方法麻烦。在此基础上，提出了一种真空镀膜系统。

　　针对上述现有技术的不足，本实用新型要解决的技术问题是提供一种真空镀膜系统，解决镀膜时浪费时间的问题，从而使镀膜方式简单，提高工作效率。为了解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：一种真空镀膜系统，其特征在于，包括镀膜架、镀膜室、中央处理器和控制装置；涂布架和中央处理器均位于涂布室内，控制装置设置在涂布室外；真空镀膜系统还包括镀膜装置，镀膜室内设有多个镀膜装置。优选地，涂覆框架的一侧连接有进料装置。真空镀膜系统控制装置还分别与喷漆室、喷涂装置和溶剂储存装置连接，喷漆室分别与喷涂装置和溶剂储存装置连接。真空镀膜系统中的溶剂储存装置的一侧连接有排放装置。真空镀膜系统使用的进料装置的进料口设置有用于涂覆材料的加热装置。电磁阀也布置在进料口。优选地，电磁阀是单向电磁阀。真空镀膜系统加热装置为加热线圈，加热线圈与控制装置连接。控制装置包括控制器和马达。多弧电镀的蒸发源一般为圆饼，俗称圆饼靶，也有矩形多弧靶。磁铁安装在靶座上，通过前后移动磁铁改变磁场强度，可以调节弧斑的移动速度和轨迹。为了降低靶和垫板的温度，冷却水应该连续引入垫板。为了确保靶和背板之间的高导电性和导热性，还可以在靶和背板之间添加锡垫圈。

　　本实用新型真空镀膜系统具有避免涂层气体污染，提高涂层质量，涂层方式简单，提高涂层效率，提高涂层材料利用率，节约能源的优点。