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产品名称:
ITO镀膜生产线
产品说明:
本系统为高真空ITO 箱式镀膜设备,主要用于沉积AZO、 ITO 透明导电薄膜,金属薄膜,半导体薄膜等, 也可用于其他功能性薄膜的沉积。
产品特点:
  • 订货信息
  • 主要性能指标
  • 外形尺寸
  • 法兰尺寸
  • 选配件
    1、双腔室结构(含工艺腔室及进出样室);2、最大溅射样品尺寸约450×250mm;3、磁控溅射靶四支,其中两支为孪生靶,控制电源为两套直流电源和一套中频电源;4、配三路气体及相应流量控制器;5、配备轴向线性往复运动样品台;6、在线膜厚检测装置;7、加热及温控系统,保证腔室能够加热至500℃;
    1、双腔室结构(含工艺腔室及进出样室);2、最大溅射样品尺寸约450×250mm;3、磁控溅射靶四支,其中两支为孪生靶,控制电源为两套直流电源和一套中频电源;4、配三路气体及相应流量控制器;5、配备轴向线性往复运动样品台;6、在线膜厚检测装置;7、加热及温控系统,保证腔室能够加热至500℃;
    1、双腔室结构(含工艺腔室及进出样室);2、最大溅射样品尺寸约450×250mm;3、磁控溅射靶四支,其中两支为孪生靶,控制电源为两套直流电源和一套中频电源;4、配三路气体及相应流量控制器;5、配备轴向线性往复运动样品台;6、在线膜厚检测装置;7、加热及温控系统,保证腔室能够加热至500℃;
    1、双腔室结构(含工艺腔室及进出样室);2、最大溅射样品尺寸约450×250mm;3、磁控溅射靶四支,其中两支为孪生靶,控制电源为两套直流电源和一套中频电源;4、配三路气体及相应流量控制器;5、配备轴向线性往复运动样品台;6、在线膜厚检测装置;7、加热及温控系统,保证腔室能够加热至500℃;
    1、双腔室结构(含工艺腔室及进出样室);2、最大溅射样品尺寸约450×250mm;3、磁控溅射靶四支,其中两支为孪生靶,控制电源为两套直流电源和一套中频电源;4、配三路气体及相应流量控制器;5、配备轴向线性往复运动样品台;6、在线膜厚检测装置;7、加热及温控系统,保证腔室能够加热至500℃;