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直线式劳埃透镜镀制机
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直线式劳埃透镜镀制机

直线式劳埃透镜镀制机,是为高能同步辐射光源(HEPS)研发的高端仪器装备,用于制备硬X射线纳米聚焦的劳埃透镜膜层。最主要的特点是膜层层数多(数千层甚至更多)且膜层位置和厚度精度高(总位置平均误差小于±5nm,每层的厚度误差小于0.1nm)。为了保证每个膜层的厚度精度,采用磁控溅射技术来实现膜片的制备,其优点是,能够精确控制膜层厚度,重复性好,薄膜与基片结合紧密,薄膜纯度高、致密性好。
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  直线式劳埃透镜镀制机,是为高能同步辐射光源(HEPS)研发的高端仪器装备,用于制备硬X射线纳米聚焦的劳埃透镜膜层。最主要的特点是膜层层数多(数千层甚至更多)且膜层位置和厚度精度高(总位置平均误差小于±5nm,每层的厚度误差小于0.1nm)。为了保证每个膜层的厚度精度,采用磁控溅射技术来实现膜片的制备,其优点是,能够精确控制膜层厚度,重复性好,薄膜与基片结合紧密,薄膜纯度高、致密性好。

  性能参数:

  进样室

  本底极限真空度<8×10-5Pa

  腔室漏率<1×10-7Pa.L/s

  基板加热最高温度≥500℃

  沉积室

  极限真空度:<8×10-6Pa

  腔室漏率<1×10-8Pa.L/s

  靶位个数≥9个

  靶与样品间距离60~100mm手动可调

  单个电源可切换的靶位个数≥4个

  基板加热最高温度≥200℃

  运动系统速率稳定性≤0.1% /300mm

  运动系统直线度≤30μm/300mm

  检测室

  极限真空度:<8×10-6Pa

  腔室漏率<1×10-8Pa.L/s

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