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MPO专用遮光膜镀膜设备
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MPO专用遮光膜镀膜设备

该设备为高真空电子束蒸镀设备,即利用高能量密度的电子束轰击被镀材料,使其气化并沉积在基片表面;此设备为在石英或其它材料表面沉积镍铬合金或其它单金属、合金;设备由立式前开门水冷真空室、真空系统、工装系统、电子束沉积系统、离子轰击系统、加热系统、测量及监控系统、电控系统、辅助系统(机架、工艺气路、压空气路、冷却水路、附件)等组成。
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  该设备为高真空电子束蒸镀设备,即利用高能量密度的电子束轰击被镀材料,使其气化并沉积在基片表面;此设备为在石英或其它材料表面沉积镍铬合金或其它单金属、合金;设备由立式前开门水冷真空室、真空系统、工装系统、电子束沉积系统、离子轰击系统、加热系统、测量及监控系统、电控系统、辅助系统(机架、工艺气路、压空气路、冷却水路、附件)等组成。

  性能参数:

  1)沉积材料:CrNi合金(Cr80Ni20);

  2)膜厚仪:分辨率0.01埃;

  3)具备辉光放电功能:最大电压3KV,功率600W,320mA,工作压力2.0x10-2mbar;

  4)膜层均匀性:±5%;

  5)极限真空:8.0x10-5pa;

  6)本底真空:5x10-4Pa,到达时间:≤30min ;

  7)设备内腔尺寸:Φ800x1000;

  8)电子枪:Φ50X25,10KW,270°偏转;电子枪带灭弧和可编程扫描功能;

  9)工件转架:工件可实现公自转,双层摆放沉积不同表面,微孔内沉积深度由工件摆放角度决定;公转速度:1-10rpm;

  10)加热温度:max300℃,工作200℃;均匀性±2℃;

  11)控制系统:PC+PLC,可自动、手动控制方式转换,多种互锁保护,具备多种参数显示功能及工艺菜单储存能力;

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