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多靶位立式磁控溅射镀膜机
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多靶位立式磁控溅射镀膜机

该设备可沉积单金属、合金、及多种介质膜，多层膜；主要用于Φ150-Φ500轮毂型金属、非金属零件表面沉积各类功能膜（耐磨、防腐、导电膜、绝缘膜等）的研发和小批生产。
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参数

　　一、应用领域：

　　该设备可沉积单金属、合金、及多种介质膜，多层膜;主要用于Φ150-Φ500轮毂型金属、非金属零件表面沉积各类功能膜(耐磨、防腐、导电膜、绝缘膜等)的研发和小批生产。

　　二、性能参数

　　1. Φ1000x700水冷真空腔体，侧开门，样品架公自转;

　　2. 顶部和侧面布置有溅射靶位8个;

　　3. 6″直流靶6只，每只各配3KW直流电源1套;

　　4. 6″射频靶2只，各配1.5KW射频电源1套;

　　5. 系统配考夫曼离子源用于工件清洗;

　　6. 腔室可加热，最高加热温度300℃。

　　7. 极限真空：5x10-4Pa。

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