真空应用系统
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倍增级磁控镀膜机主要应用于光电倍增管倍增级表面的锑膜镀制。在膜层制备过程中可实现对光电倍增管的倍增级基底进行烘烤除气、离子轰击清洁、膜层沉积和偏电压辅助、膜厚工艺测试等功能,可进行数字化编程、程序控制和动态监测,能够实时显示、记录、统计、计算、保存、输出各种运行数据,达到精确控制膜厚和沉积均匀性的要求。
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该设备为高真空电子束蒸镀设备,即利用高能量密度的电子束轰击被镀材料,使其气化并沉积在基片表面;此设备为在石英或其它材料表面沉积镍铬合金或其它单金属、合金;设备由立式前开门水冷真空室、真空系统、工装系统、电子束沉积系统、离子轰击系统、加热系统、测量及监控系统、电控系统、辅助系统(机架、工艺气路、压空气路、冷却水路、附件)等组成。
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设备可完成光电倍增管高温真空除气、阴极激活、阴极转移、MCP清刷、铟封等多道关键制备工序,是多种运动方式同时存在的复杂系统。主要应用于中微子探测试验、高能物理探测和单光子探测领域。
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