产品分类
产品详情
设备特点
超高真空除气设备主要用于电子真空器件及半导体器件制备时的抽真空和烘烤除气,是无油、超高真空系统。可根据用户使用要求定制1~8工位,应用于电子半导体行业。
设备性能
1、系统内极限真空度:5×10-8Pa;
2、真空室极限真空度:5×10-5Pa;
3、加热炉尺寸φ500×800mm;
4、加热温度500~600℃。
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*注:请务必信息填写准确,并保持通讯畅通,我们会尽快与你取得联系
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超高真空除气设备主要用于电子真空器件及半导体器件制备时的抽真空和烘烤除气,是无油、超高真空系统。可根据用户使用要求定制1~8工位,应用于电子半导体行业。
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1、系统内极限真空度:5×10-8Pa;
2、真空室极限真空度:5×10-5Pa;
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4、加热温度500~600℃。
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