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电阻式热蒸发镀膜机
该设备为高真空多用途电阻蒸发镀膜机,四对电极可单独或同时蒸发不同的材料。设备为立式顶开盖结构,四对电极可单独或共蒸发,样品Φ300(max),样品台公自转,公转转速2-20rpm可调;流量计控制气体流量,满足离子轰击压力要求。

双腔室四靶磁控溅射镀膜机
该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等,用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室两个真空室组成。主腔室用于镀制薄膜,完成用户主要镀膜工艺过程。预备室通过高真空插板阀与主腔室相连,可以用于镀膜前基片与镀膜后薄膜的等离子清洗,并可以在不破坏主腔室真空的条件下更换基片。
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