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产品详情
一、应用领域：
该设备可沉积金属、合金、及多种介质膜，可进行反应溅射；用于硬质膜，装饰膜及其它功能膜的研究开发。
二、性能参数：
1. Φ500x500立式水冷腔体，
2. 配DN100多弧靶3只，4″平面圆靶1只；
3. 平面靶配1000w射频电源；系统可加偏压，偏压电源为脉冲直流，功率2000W；
4. 最高工艺加热温度500℃，
5. 样品架公自转，公转转速0-50rpm可调；
6. 系统配4路MFC工艺气体。
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