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该设备为高真空电子束蒸镀设备，即利用高能量密度的电子束轰击被镀材料，使其气化并沉积在基片表面；此设备为在石英或其它材料表面沉积镍铬合金或其它单金属、合金；设备由立式前开门水冷真空室、真空系统、工装系统、电子束沉积系统、离子轰击系统、加热系统、测量及监控系统、电控系统、辅助系统（机架、工艺气路、压空气路、冷却水路、附件）等组成。
性能参数：
1）沉积材料：CrNi合金（Cr80Ni20）；
2）膜厚仪：分辨率0.01埃；
3）具备辉光放电功能：最大电压3KV，功率600W，320mA，工作压力2.0x10-2mbar；
4）膜层均匀性：±5%；
5）极限真空：8.0x10-5pa；
6）本底真空：5x10-4Pa，到达时间：≤30min ；
7）设备内腔尺寸：Φ800x1000；
8）电子枪：Φ50X25，10KW，270°偏转；电子枪带灭弧和可编程扫描功能；
9）工件转架：工件可实现公自转，双层摆放沉积不同表面，微孔内沉积深度由工件摆放角度决定；公转速度：1-10rpm；
10）加热温度：max300℃，工作200℃；均匀性±2℃；
11）控制系统：PC+PLC，可自动、手动控制方式转换，多种互锁保护，具备多种参数显示功能及工艺菜单储存能力；
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