please try again.
sousuo
产品

产品分类

您现在的位置:
首页
/
/
/
/
双腔室四靶磁控溅射镀膜机
浏览量:
1000

双腔室四靶磁控溅射镀膜机

该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等,用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室两个真空室组成。主腔室用于镀制薄膜,完成用户主要镀膜工艺过程。预备室通过高真空插板阀与主腔室相连,可以用于镀膜前基片与镀膜后薄膜的等离子清洗,并可以在不破坏主腔室真空的条件下更换基片。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
数量
-
+
库存:
0
产品详情
参数

  一、应用领域

  该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等,用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室两个真空室组成。主腔室用于镀制薄膜,完成用户主要镀膜工艺过程。预备室通过高真空插板阀与主腔室相连,可以用于镀膜前基片与镀膜后薄膜的等离子清洗,并可以在不破坏主腔室真空的条件下更换基片。

  二、性能参数

  镀膜室:

  1. 有效尺寸约Φ500×550,极限真空:5×10-5Pa;

  2. 磁控靶: 3″ 4只,直流射频兼容,靶基距、角度可调;配电(气)动挡板;

  3. 基片尺寸4″,可实现旋转、升降;

  4. 加热温度600℃,控温精度±1度;

  5. 样品台公转,转速:2-20rpm可调;

  6. 偏压、膜厚仪、薄膜规可选;

  预备室:

  1. 有效尺寸约Φ300×350;极限真空:5×10-4Pa;

  2. 腔体具有自加热烘烤除气功能;

  3. 对基片离子溅射清洗功能;

  4. 配置基片库,可一次装卡4片基片;

  5. 磁力取样杆传递基片;

扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

PRODUCTS CENTER

推荐产品

高真空电磁挡板阀
  高真空电磁挡板阀   极限真空:5×10-6Pa   漏率:10-9Pa·m3/s   工作电压:220V/50Hz   启动间隔:6s   功耗:<3W
查看详情 白箭头 黑箭头

NEWS CENTER

推荐新闻

01-17

真空炉的价格多少钱呢?

熟悉这款真空炉产品的人应该都知道它在哪些场合所使用的,该设备在经过不断的完善以后,因为它本身的一些优势所以也受到了客户们的喜欢,对于用户们来说在选购保模设备的时候比较关心的就是它的价格。那么你知道这款真空炉到底多少钱呢?下面就为大家来做一个简单的介绍吧。
01-17
01-04

真空炉价格都会受到哪些因素的影响?

当我们在购买一件产品的时候,肯定也是会非常关心它的价格问题,所以说用户们在采购真空炉的时候也如此。但是你也会发现它的价格差距是比较大的,那么你知道这是什么因素造成的吗?关于这个问题接下来小编就为大家来分析一下吧,希望能为相关人士带来帮助吧。
12-17

如何进行真空炉的保养工作?

我们在工业上所使用的任何真空炉,其实在使用一段时间之后都是要进行保养的,不然的话就会有影响真空炉的后续使用工作,同时对于他的寿命来说也会有很大的影响。所以说关于这一点,操作者要重视起来的,接下来,就为大家来说一下这款设备的保养方法吧,希望你能好好学习一下。
返回顶部

北京中科科美科技股份有限公司