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热蒸发、磁控溅射镀膜机
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热蒸发、磁控溅射镀膜机

该设备在同一真空室内具有热蒸发和磁控溅射镀膜功能,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积;可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜,亦可镀铁磁材料。
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参数

  一、应用领域

  该设备在同一真空室内具有热蒸发和磁控溅射镀膜功能,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积;可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜,亦可镀铁磁材料。

  二、性能参数

  1. 极限真空压力:8×10-5 Pa;

  2. 磁控靶:2只 靶直径:Φ50,配电(气)动挡板;

  3. 恢复真空抽气时间(min):<30;

  4. 真空室:Φ500×550;

  5. 蒸发电极: 2对 2KW 配电(气)动挡板;

  6. 样品台:公自转,公转:2-20rpm可调;

  7. 偏压、膜厚仪、薄膜规、样品台加热可选;

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