sousuo
产品

产品分类

您现在的位置:
首页
/
/
/
/
通用磁控溅射镀膜机
浏览量:
1000

通用磁控溅射镀膜机

磁控溅射镀膜机是应用最广泛的PVD沉积设备,可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。该设备主要用于实验室制备光学膜层,电学,光电膜层及其它功能膜层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。该设备广泛应用于大专院校及相关科研机构。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
数量
-
+
库存:
0
产品详情
参数

  一、应用领域

  磁控溅射镀膜机是应用最广泛的PVD沉积设备,可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。该设备主要用于实验室制备光学膜层,电学,光电膜层及其它功能膜层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。该设备广泛应用于大专院校及相关科研机构。

  二、性能参数:

  1. 极限真空压力:5×10-5Pa;

  2. 磁控靶:直径Φ50-Φ150;数量:2-4只;

  3. 靶单位面积功率:(W/cm2)5~20;

  4. 靶电源功率(W):DC500-5000W,RF500-1000W;

  5. 基片加热温度:0~500℃可控;

  6. 恢复真空抽气时间(分):从大气至5×10-4Pa<30min;

  7. 工艺气体:MFC 1-4路;

  8. 样品架:公转或公自转;

  9. 其它配置:偏压、膜厚仪、薄膜规、磁控靶电(气)动挡板可选;

扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

PRODUCTS CENTER

推荐产品

高真空电磁挡板阀
  高真空电磁挡板阀   极限真空:5×10-6Pa   漏率:10-9Pa·m3/s   工作电压:220V/50Hz   启动间隔:6s   功耗:<3W
查看详情 白箭头 黑箭头

NEWS CENTER

推荐新闻

03-09

中科科美丨成功入选北京市专精特新“小巨人”名单

2022年3月1日,北京市经济和信息化局公示了2021年度第二批拟认定北京市专精特新“小巨人”企业名单。北京中科科美科技股份有限公司成功入选。
03-02

镀膜机维护的方法?

镀膜机的优点虽然说说比较多的,但是它在使用的时候也是要做好日常的维护。这样的话才可以更加的操作,而且在使用的时候也不会经常出现问题的。关于维护方法接下来小编就为各位朋友来讲述一下吧。想知道的话就往下看吧。
02-15

选购真空炉时需要注意几个关键点?

真空炉在很多行业都会用到的,这款设备具有很多的优点,而且市面上现在生产真空炉的厂家也有不少,不同的厂家他们的产品在质量上也都有所不同。在这样的情况下我们在选购产品的时候就会有很多要注意的事情,下面就来做一个简单的介绍吧。
返回顶部

北京中科科美科技股份有限公司